jamk.fi
9.5.2019 10:00 - 9.5.2019 16:00

Avoimet ovet & työpaja: Atomikerroskasvatus – menetelmät ja sovellukset

Tervetuloa tutustumaan ALD CoCampuksen ohutkalvoteknologiatoimintaan! Tilaisuus on avoin kaikille aiheesta kiinnostuneille - ennakkoilmoittautumista ei tarvita.

Aika: 9.5.2019 10:00 - 9.5.2019 16:00
Paikka: JAMK, laboratorio DP72A Rajakatu 35, 40200 Jyväskylä
Kieli: Suomi

Avoimet ovet klo 10 – 14

JAMKilla vietetään Eurooppa päivänä 9.5. hanketoiminnan avoimia ovia. Avoimien ovien aikana pääset tutustumaan mm. uuteen Beneq WCS 500 rullalta rullalle ALD-laitteeseen JAMKin asiantuntijoiden esittelemänä.

ALD tekniikalla tehtyjä pintoja käytetään esimerkiksi itsepuhdistuvista laseissa, hopean suojauksessa ja OLED-näytöissä (kuten kännykät ja televisiot).

Eurooppa päivän muu ohjelma

Työpaja klo 14 – 16

Työpajassa JAMKin ALD asiantuntijat alustavat aihetta, jonka jälkeen on vapaata keskustelua osallistujien kanssa ALD:n käyttömahdollisuuksista erilaisissa sovelluksissa.

Atomikerroskasvatus (ALD) on vauhdikkaimmin uusia sovelluksia teollisuudessa saava ohutkalvokasvatusmenetelmä. Teollisia sovelluksia ovat esimerkiksi:

  • Kosteuden suojakalvot mm. elektroniikassa ja erityisesti OLED:eissä
  • Optiikka (suodattimet, heijastamattomat pinnat, heijastimet, hilojen pinnoitus)
  • Esteettiset metallin kaltaiset pinnoitteet ja muut dekoratiiviset pinnat
  • Energiatekniikka (akut, polttokennot, veden valokatalyyttinen hajotus)
  • Likaantumisen esto, helposti puhdistettavat/puhdistuvat pinnat, itsepuhdistuvat pinnat
  • Korroosion esto, passivointi, korroosion suojaus, kemikaalien kesto
  • Korkealaatuiset johtavat, eristävät tai puolijohtavat pinnoitteet

ALD:llä kasvatetaan hyvin monenlaisille pinnoille ohutkalvoja atomikerros kerrallaan. Kalvo voi olla jopa vain yhden atomikerroksen paksuinen eli noin 0,1 nanometriä paksu. Mitään varsinaista ylärajaa ei ole, mutta tyypillisesti pinnoitteiden paksuudet ovat joistakin kymmenistä nanometreistä 0,5 mikrometriin.

Tunnettuja pinnoitemateriaaleja on satoja. Pinnoille tunnusomaista ovat tiheys, tiiveys (pinhole-free), tasaisuus (uniformity), taustan pinnan muotojen mukaisuus (conformality), tarkka paksuuden kontrolli ja pinnoitusprosessin korkea toistettavuus (repeatability).

Teollisia sovelluksia on lukemattomia. ALD CoCampus auttaa yrityksiä sovellusten käyttöön otossa ja uusien sovellusten kehittämisessä. Yhtenä tavoitteena on mm. olla kehittämässä puupohjaisia nestepakkausmateriaaleja.

Tule keskustelemaan ja etsimään uusi ratkaisuja!

JAMKin ALD-työryhmän asiantuntijoita toimivat projekti-insinööri Elja Kallberg, projekti-insinööri Esa Alakoski, projekti-insinööri Mauno Harju ja projekti-insinööri Timo Laine.

ALD CoCampus

ALD CoCampus on Jyväskylän ammattikorkeakoulun ja Jyväskylän yliopiston yhteenliittymä, jossa tehdää tiivistä yhteistyötä Jyväskylän yliopiston fysiikan laitoksen ja Nanoscience Centerin kanssa. ALD CoCampus on osa JAMKin Center for Applied Materials Science (CAMS) -toimintaa.

 

Lisätiedot

Harju Mauno

Harju Mauno

Projekti-insinööri, Project Engineer
Teollisuustekniikka, Industrial Engineering
Teknologia, School of Technology
+358 40 768 1931
Näytä lisää
Tutkinnot:
Filosofian tohtori